純水設(shè)備和EDI超純水設(shè)備在市場(chǎng)的應(yīng)用和需求
多媒體過(guò)濾
本階段的主要任務(wù)是對(duì)自來(lái)水進(jìn)行粗過(guò)濾，為進(jìn)入反滲透膜做準(zhǔn)備，在進(jìn)入反滲透膜前確保一定的水質(zhì)，從而保護(hù)反滲透膜的使用效果和使用壽命。在此過(guò)程中，對(duì)原水箱中的自來(lái)水進(jìn)行細(xì)砂、活性炭和精密過(guò)濾器的過(guò)濾無(wú)錫純水設(shè)備，去除水中的雜質(zhì)、有機(jī)物、膠體和懸浮物，防止這些大顆粒進(jìn)入反滲透膜，無(wú)錫水處理設(shè)備堵塞反滲透膜。粗濾后的水質(zhì)有一定程度的改善。然后考慮下一步。
二級(jí)反滲透
粗過(guò)濾后的水通過(guò)反滲透膜的反滲透、反滲透膜作為半透膜,可防止Ga2 + 2 +鎂,鐵2,SO4-2, Cl - 1,如此大的Na +離子,為了確保ro反滲透膜和保護(hù)的影響,反滲透的容器必須不斷添加抑制劑,同時(shí)必須確保水溫25℃以上,使用蒸汽熱交換器(冬季)和維護(hù)水壓力,使用立式泵)在一定的壓力下,通過(guò)反滲透膜包括離子水?dāng)D壓,形成兩種水,所有通過(guò)反滲透膜水成品到下一個(gè)鏈接時(shí),水沒(méi)有經(jīng)過(guò)反滲透膜出院,通過(guò)一級(jí)反滲透處理的水進(jìn)入下一個(gè)環(huán)節(jié)——二級(jí)反滲透。
二級(jí)反滲透
二級(jí)反滲透原理是一樣的反滲透的程度,它的作用是進(jìn)一步去除水中的鹽,(Ga2 +、2 +鎂、鐵2,SO4-2, Cl - 1, Na +等離子體)進(jìn)一步改善水質(zhì),后二級(jí)反滲透水導(dǎo)電率可以接近1 mΩ。厘米。第一次和第二次反滲透預(yù)處理后,保留水將成為EDI的給水,和水(水)集中沒(méi)有反滲透膜將出院時(shí)間,通常是1:3比例,也就是說(shuō),每一噸生產(chǎn)合格的水,大約3噸濃縮水(介質(zhì)水)將出院。
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二級(jí)反滲透水后存儲(chǔ)在中間水箱,它已經(jīng)被超過(guò)99%的離子,但是想進(jìn)一步改善水質(zhì),生產(chǎn)超純水、消除溶解在水中的微量元素和二氧化碳也必須經(jīng)過(guò)電滲析,即EDI過(guò)程,其原理如下,EDI是連續(xù)電除鹽,是使用的陰陽(yáng)離子混合離子交換樹(shù)脂吸附水無(wú)錫水處理設(shè)備,吸附離子的同時(shí)和在直流電壓的作用下，分別通過(guò)離子交換膜和去除陰離子和陽(yáng)離子的過(guò)程。在這個(gè)過(guò)程中，離子交換樹(shù)脂是通過(guò)電不斷地再生的，所以它們不需要通過(guò)酸或堿基對(duì)來(lái)再生。這種技術(shù)可以取代傳統(tǒng)的離子交換設(shè)備,生產(chǎn)電阻率高達(dá)18米Ω。CM超純水。這一過(guò)程被描述為水處理行業(yè)的一場(chǎng)革命。與傳統(tǒng)的離子交換相比，EDI具有以下優(yōu)點(diǎn):EDI不需要化學(xué)再生;EDI再生不需要停止;提供穩(wěn)定的水質(zhì);較低的能源消耗。操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度低;較低的運(yùn)營(yíng)成本。
EDI的水處理
給水預(yù)處理對(duì)于EDI及其重要，組件的壽命、性能及維修量都取決于給水中的雜質(zhì)含量，如果給EDI提供較好的預(yù)處理水，組件的清洗率將會(huì)降低。EDI濃水一部分循環(huán)（當(dāng)給水硬度低、電導(dǎo)率時(shí)，可以不循環(huán)），另外一部分可以返回到反滲透給水中，也可以回收作為他用或直接排至下水道。
（二）EDI的組件結(jié)構(gòu)
1、淡水室：將離子交換樹(shù)脂填充在陰、陽(yáng)離子交換膜之間形成淡水單元。
2、濃水室：用網(wǎng)狀物將每個(gè)EDI單元隔開(kāi)，無(wú)錫純水設(shè)備形成濃水室。
3、極水室。
4、絕緣板和壓緊板。
5、電源及水路連接。可以將EDI并聯(lián)運(yùn)行，可取得更大流量。
（三）EDI過(guò)程
一般城市水源中存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽(yáng)離子組成。通過(guò)反滲透預(yù)處理，99%以上的離子可以被除去。另外，原水中也可能包括其他微量元素、溶解的氣體（例如CO2）和一些弱電解質(zhì)（例如硼，二氧化硅）這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中必須被除掉。但是反滲透過(guò)程對(duì)于這些雜質(zhì)的清除效果較差。
這些離子交換膜是不允許水通過(guò)的。因此，他們可以隔絕淡水和濃水水流。 離子交換膜和離子交換樹(shù)脂的工作原理相近，可以使特定的離子遷移。陰離子交換膜只允許陰離子通過(guò)，不允許陽(yáng)離子通過(guò)；而陽(yáng)離子交換膜正好相反。在一對(duì)陰陽(yáng)離子交換膜之間充填混合離子交換樹(shù)脂就形成一個(gè)EDI單元。陰陽(yáng)離子交換膜之間由混合離子交換樹(shù)脂占據(jù)的空間被稱為淡水室。將一定數(shù)量的EDI單元羅列在一起，無(wú)錫水處理設(shè)備使陰離子交換膜和陽(yáng)離子交換膜交替排列，并使用網(wǎng)狀物將每個(gè)EDI單元隔開(kāi)形成濃水室。在給定的直流電壓的推動(dòng)下，在淡水室中，離子交換樹(shù)脂中的陰陽(yáng)離子分別在電場(chǎng)作用下向正負(fù)極遷移，并透過(guò)陰陽(yáng)離子交換樹(shù)脂進(jìn)入濃水室，同時(shí)，給水中的離子被離子交換樹(shù)脂吸附而占據(jù)由離子電遷移而流下的空位。事實(shí)上離子的遷移和吸附是同時(shí)并連續(xù)發(fā)生的無(wú)錫純水設(shè)備。通過(guò)這樣的過(guò)程，給水中的離子穿過(guò)離子交換膜進(jìn)入到濃水室被去除而成為除鹽水。
帶負(fù)電荷的陰離子（例如0H—、Cl—）被正極（+）吸引而通過(guò)陰離子交換膜，進(jìn)入到臨近的濃水室中。此后這些離子在繼續(xù)向正極遷移中遇到臨近的陽(yáng)離子交換膜，而陽(yáng)離子交換膜不允許其通過(guò)，這些離子即被阻隔在濃水中，在濃水中，透過(guò)陰陽(yáng)膜的離子維持電中性。EDI組件電流量和離子遷移量成正比。電流量由兩部分組成，一部分源于被除去離子的遷移，另一部分源于水本身電離產(chǎn)生的H+和0H-，這些就地產(chǎn)生的H+和0H-對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行連續(xù)再生。
EDI組件中的離子交換樹(shù)脂可以分為兩部分，一部分稱作工作樹(shù)脂，另一部分稱作拋光樹(shù)脂，二者的界限稱為工作前沿。工作樹(shù)脂主要起導(dǎo)電作用，而拋光樹(shù)脂在不斷交換和被連續(xù)再生。工作樹(shù)脂承擔(dān)著除去大部分離子的任務(wù)，而拋光樹(shù)脂則承擔(dān)著去除象弱電解質(zhì)等較難清除的離子的任務(wù)。
（四）EDI的電源
所使用的直流電源應(yīng)在運(yùn)行電壓范圍內(nèi)空調(diào)，無(wú)錫純水設(shè)備并可以提供再生需要的電壓。直流電源的功率應(yīng)滿足EDI最大電流(6A)的要求。直流電源的紋波率不能超過(guò)30%。過(guò)高的紋波率會(huì)使EDI組件在瞬間承受高于表觀有效電流/電壓，造成對(duì)組件的破壞。當(dāng)多個(gè)EDI組件共用一個(gè)直流電源時(shí)，每個(gè)EDI電壓/電流應(yīng)實(shí)現(xiàn)獨(dú)立可調(diào)。配有電壓表和電流表。同時(shí)，應(yīng)當(dāng)配備限流裝置。為保護(hù)EDI組件，當(dāng)流經(jīng)EDI組件的水流量低于某一點(diǎn)時(shí)，應(yīng)關(guān)閉電源。
（五）EDI所用儀表
1、壓力表：測(cè)定EDI純水、濃水、極水給水壓力和出水壓力。二級(jí)反滲透+EDI水處理。
2、流量計(jì)：測(cè)量純水出水、濃水入水、極水入水及濃水補(bǔ)水的流量。
3、電導(dǎo)率儀：測(cè)量EDI給水和濃水入水電導(dǎo)率。
4．電阻率儀：測(cè)量EDI純水電阻率。
5、流量開(kāi)關(guān)：如果流入EDI組件的純水、濃水、極水流量過(guò)低，流量開(kāi)關(guān)會(huì)促使系統(tǒng)關(guān)閉。
五、純水的保存和給水
經(jīng)過(guò)EDI處理后的水即可為成品水，進(jìn)入純水箱保存，為保證水質(zhì)，一般采用氮封的辦法，即從純水箱頂部充入氮?dú)狻＝o水后，液位電磁閥與PLC配合，當(dāng)純水箱的水位低于最低水位時(shí)，PLC啟動(dòng)制水程序，整個(gè)系統(tǒng)開(kāi)始制水，直到純水箱水位達(dá)到最高水位，系統(tǒng)停止制水，如此循環(huán)往復(fù)，無(wú)錫水處理設(shè)備始終保持純水箱里有一定的水位。
電鍍用去離子水設(shè)備的特點(diǎn)是產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，造價(jià)相對(duì)較低。去離子水設(shè)備是通過(guò)反滲透、離子交換器、EDI等方法去除水中陰陽(yáng)離子的水處理裝置。去離子水設(shè)備性能穩(wěn)定，大量應(yīng)用于醫(yī)藥，電子，化工，玻璃，渡涂，鍋爐，化驗(yàn)室等行業(yè)。
電鍍用去離子水設(shè)備的工藝流程
1、采用離子交換方式，其流程如下原水→原水加壓泵→砂濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹(shù)脂過(guò)濾床→陰樹(shù)脂過(guò)濾床→陰陽(yáng)樹(shù)脂混床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
2、采用反滲透方式，其流程如下 原水→原水加壓泵→砂濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→反滲透→純水箱
3、采用反滲透加混床方式，其流程如下原水→原水加壓泵→砂濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→反滲透→純水箱→加壓泵→陰陽(yáng)離子混合床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)
六、EDI去離子水設(shè)備的工業(yè)應(yīng)用和市場(chǎng)需求
最近幾年EDI去離子在各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域都越來(lái)越受重視，許多工業(yè)系統(tǒng)開(kāi)始采用電去離子作為其水處理系統(tǒng)的更新?lián)Q代技術(shù)無(wú)錫水處理設(shè)備，如電力工業(yè)、制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、電鍍與金屬表面處理等。
1、電力工業(yè) 據(jù)推算電力行業(yè)水處理單元的操作費(fèi)用約占電力成本的10%，而用電去離子替代離子交換樹(shù)脂可以使每處理1000加侖水的成本由11美元降至1.75美元。
2、制藥工業(yè)雖然藥用水的特點(diǎn)是并不要求很高的去離子程度，但電去離子系統(tǒng)具有同時(shí)去鹽和控制微生物指標(biāo)的特點(diǎn)，因此已有多家企業(yè)采用RO/EDI集成系統(tǒng)。據(jù)稱該類系統(tǒng)性能穩(wěn)定，全流程計(jì)算機(jī)連續(xù)監(jiān)控，全自動(dòng)操作無(wú)人值守。
3、電子工業(yè)電子工業(yè)對(duì)水質(zhì)的要求極高，水電阻率要穩(wěn)定的大于18MΩ，而EDI出水一般在15-17MΩ左右，無(wú)錫純水設(shè)備因此在電子級(jí)水的生產(chǎn)過(guò)程多采用EDI+拋光樹(shù)脂系統(tǒng)，即在EDI之后加離子交換，此工程雖然仍需離子交換，但由于EDI已除去了大部分離子，拋光樹(shù)脂幾乎不用再生，因此水處理費(fèi)用仍然很低。
4、電鍍與金屬表面處理電去離子水設(shè)備可用于電鍍廢水處理可以使水重復(fù)使用并回收重金屬離子。美國(guó)已有該類型系統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)裝置。無(wú)錫水處理設(shè)備，無(wú)錫去離子水設(shè)備，無(wú)錫純水設(shè)備
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