半導(dǎo)體研磨廢水處理方法
在集成電路封裝制作過程中會對晶片進(jìn)行切割和研磨,并且會運用超純水進(jìn)行洗凈,這樣就發(fā)生了少量的切割研磨廢水。目前國內(nèi)很多的廠家是采取加藥混凝積淀和濾袋過濾方法處理的,出水到達(dá)污水綜合處理達(dá)標(biāo)排放的規(guī)范。
半導(dǎo)體研磨廢水的處理方法,純水設(shè)備其特性在于,包含如下步驟:
(1)通過廢水搜集箱搜集硅片研磨發(fā)生的廢水;
(2)應(yīng)用水泵將廢水泵入多介質(zhì)過濾器進(jìn)行一次過濾;
(3)將經(jīng)過一次過濾的水送入保安過濾器進(jìn)行第二次過濾,所述的保安過濾器用于掩護(hù)超濾膜;
(4)將經(jīng)過第二次過濾的水送入超濾膜過濾安裝中進(jìn)行第三次過濾;
(5)通過SDI測定儀或許濁度儀測定并判定經(jīng)過第三次過濾的水能否契合欲先設(shè)定的規(guī)范請求,如契合規(guī)范請求,送入產(chǎn)水箱;純水設(shè)備,實驗室純水設(shè)備, 無錫純水設(shè)備,無錫水處理設(shè)備,無錫去離子水設(shè)備, 醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。 半導(dǎo)體超純水設(shè)備。
- 上一篇:中水處理方法的技術(shù)詳解 2022/11/14
- 下一篇:活性炭吸附在水處理工業(yè)廢水處理中的一些應(yīng)用 2022/11/10